海11层工业研发楼建筑水暖电气图纸cad平面布置图及系统图

该附件为上海11层工业研发楼建筑水暖电气图纸

一、项目概要

1.项目名称:  上海中星微电子产业大楼

2.建设地点:  上海浦东张江集成电路产业区二期1-4地块,基地面积2.1公顷

3.工程规模:  总建筑面积 84066m%%172;地上三栋十一层塔楼,功能是工业(研发),地上建筑面积60242m%%172;地下室是二层车库及配套服务设施,机动车停车数共509辆,地下建筑面积共 23842m%%172。

4.建筑高度:  49.5m

5.建筑结构类型:  钢筋混凝土框架--剪力墙结构

6.设计防火分类:   二类高层科研楼

7.耐火等级:   地下一级,地上二级

二、设计范围

1.该资料包括建设红线内的以下内容:

10/0.4kV变、配电系统;空调动力配电系统;照明系统;电气火灾监控系统;能耗监控系统;防雷保护、接地及安全措施。

2.电源设计分界:变配电系统以10kV高压电源进线柜上桩头为界。总体环境照明、泛光照明、门厅、主要通道、工业(研发)区域等精装修部分由相关专业

公司进行深化设计,该资料只预留至配电箱或低压配电柜馈线开关。

三.设计范围

2.1 安全防范系统   2.2 一卡通系统   2.3 综合布线系统

2.4 网络交换系统      2.5 巡更系统    2.6 对讲机覆盖系统

2.7 五方对讲系统   2.8 BA控制系统  2.9 机房工程

变配电站平面布置图

地下一层电力平面图

基础接地平面图

低压配电一次系统图

地下室电力配电系统图（二）

电气火灾监控系统图

高压配电一次系统图

机房系统图